真空鍍膜技術(shù)是在真空條件下采用物理或者化學(xué)方法,使物體表面獲取所需膜體,真空鍍膜技術(shù)根據(jù)其采用方法的不同科分成蒸發(fā)鍍、濺射鍍、離子鍍、束流沉積以及分子束外延等,這次分析的鍍膜設(shè)備采用的是磁控濺射鍍膜。
真空室是真空設(shè)備的一個(gè)主要組成部位,真空鍍膜設(shè)備真空室設(shè)計(jì)主要考慮的就是密封性和可靠性,結(jié)構(gòu)必須要合理,真空設(shè)備的材料生產(chǎn)都是在真空室內(nèi)進(jìn)行的,材料對(duì)真空度的影響要小,設(shè)計(jì)不能馬虎,要注意一些問(wèn)題。
使用磁控濺射的真空鍍膜機(jī)一般采用的是圓筒主體結(jié)構(gòu),結(jié)構(gòu)上要保證快速抽空,因氣袋會(huì)緩慢的放氣,因此要避免出現(xiàn)隔離孔穴,真空系統(tǒng)上端會(huì)加裝磁控濺射槍,為了使真空室和元件有足夠的強(qiáng)度,保證在外部和內(nèi)部的作用力下不產(chǎn)生形狀的變化,厚度需要足夠。
焊接是真空室制造中的一道關(guān)鍵工序,保證焊接之后的真空室不會(huì)產(chǎn)生漏氣現(xiàn)象,須合理設(shè)計(jì)焊接結(jié)構(gòu),提高焊接質(zhì)量,處在超高真空的內(nèi)壁粗糙度要拋光使室外室內(nèi)表面很光潔,須特別注意的是需做好防止生銹的措施。